Couches de Nanotubes et Filaments de Carbone pour l'Emission Froide d'Electrons -
Intégration aux Ecrans Plats à Emission de Champ

Résumé : Ce travail concerne l'élaboration in situ, par CVD catalytique, de couches de nanotubes et filaments de carbone pour leur intégration en tant que couches émissives d'électrons dans les écrans plats à émission de champ.
Les paramètres clés, avantages et limitations de plusieurs techniques de préparation et d'intégration de nano particules catalytiques ont d'abord été analysés : le démouillage d'un film continu, la gravure humide post-démouillage, le dépôt de nano agrégats et la lithographie électronique. Trois techniques de croissance de couches carbonées ont ensuite été étudiées dans le même réacteur : la CVD thermique simple, la CVD en présence d'un champ électrique et la CVD avec assistance plasma à partir d'une source de carbone solide. Enfin, les propriétés émissives des diverses couches carbonées élaborées ont été mesurées, en mode diode pour les couches synthétisées sur échantillon plan et en mode triode pour les couches intégrées sur structure cathodique d'écran.
L'analyse de ces résultats a permis de clarifier les liens entre paramètres technologiques d'élaboration, morphologie et performances émissives des films de nanotubes et filaments de carbone.
Type de document :
Thèse
Matériaux. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2006. Français


https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00090016
Contributeur : Thomas Goislard de Monsabert <>
Soumis le : vendredi 12 janvier 2007 - 14:24:33
Dernière modification le : vendredi 5 février 2016 - 11:15:13
Document(s) archivé(s) le : mardi 21 septembre 2010 - 12:01:09

Identifiants

  • HAL Id : tel-00090016, version 2

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CEA | UJF | DRT

Citation

Thomas Goislard de Monsabert. Couches de Nanotubes et Filaments de Carbone pour l'Emission Froide d'Electrons -
Intégration aux Ecrans Plats à Emission de Champ. Matériaux. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2006. Français. <tel-00090016v2>

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