A. Tsumura, H. Koezuka, and T. Ando, Appl. Phys. Lett, p.1210, 1986.

J. Rivnay, L. H. Jimison, J. E. Northrup, M. F. Toney, R. Noriega et al., Nature Materials, vol.8, p.952, 2009.

N. A. Minder, S. Ono, Z. Chen, A. Facchetti, and A. F. Morpurgo, Advanced Materials, vol.24, p.503, 2012.

I. Y. Chernyshov, M. V. Vener, E. V. Feldman, D. Y. Paraschuk, and A. Y. Sosorev, The Journal of Physical Chemistry Letters, vol.8, p.2875, 2017.

Y. Li, C. Xu, P. Hu, and L. Zhen, ACS Nano, issue.7, p.7795, 2013.

Y. J. Zhang, T. Oka, R. Suzuki, J. T. Ye, and Y. Iwasa, Science, vol.344, p.725, 2014.

T. K. Ta, T. N. Tran, Q. M. Tran, D. P. Pham, K. N. Pham et al., Journal of Electronic Materials, vol.46, p.3345, 2017.

C. Ran, J. Xu, W. Gao, C. Huang, and S. Dou, Chemical Society Reviews, 2018.

M. A. Squillaci, L. Ferlauto, Y. Zagranyarski, S. Milita, K. Müllen et al., Adv. Mater, p.3170, 2015.

M. A. Squillaci, A. Cipriani, M. Melucci, M. Zambianchi, G. Caminati et al., Adv. Electron. Mater, p.1700382, 2017.