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, Caractérisation des plasmas d'oxygène utilisés pour la modification du SiN

, Nature

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, Mesure de la nature chimique de la couche modifiée

, Cinétique de croissance/ pulvérisation de la couche SiON : mesures ellipsométriques, p.164

, Impact des paramètres plasma sur la profondeur de SiN oxydé

, Comparaisons des résultats en épaisseur de pARXPS

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