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L. Résultats-de-mesure-de, par les différentes techniques sont compilés sur les Figure 108 et Figure 109 Les résultats obtenus à l'aide des techniques 1 et 2 sont présentés en rouge, Par comparaison, les points expérimentaux obtenus via la mesure de ? et h eq sont montrés en bleu et les résultats des analyses chimiques fournis par FerroPem (GDMS et ICPOES) en noir

R. Au-premier, il apparaît clairement que la technique électrique ?+h eq sous-estime largement les teneurs en dopants par rapport aux autres techniques, Cela est une conséquence directe du fait que µ maj dans le silicium compensé ne peut être modélisée par le modèle d'Arora

. Enfin, un point de vue plus scientifique, l'exploitation des données de Hall a permis d'étudier l'influence de la compensation du dopage sur la position du niveau énergétique E A associé au bore

V. Chapitre, Développement de techniques de caractérisation innovantes pour la détermination des concentrations en dopants et en éléments légers dans le silicium 214

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