Abstract : Chalcogenide materials which can be used in the development of electrical memory were studied in the course of this work. The aim was to improve our knowledge of the materials and of the mechanisms that could explain the electrical switching. The study was not focused on the crystalline/amorphous phase change phenomena involved, for example, in the stoechiometric material Ge2Sb2Te5 (GST) at the basis of the development of PC-RAM (Phase Change Random Access Memory). We rather focused on the electrical switching phenomena which can be used in the development of R-RAM memories (Resistive Random Access Memory). Two kinds of materials were studied: Ag-Ge-Se compounds selected to develop "programmable metallization cell" and Ge2Sb2+xTe5 compounds containing an excess of antimony as compared to the GST phase change material. First, a structural and electrical investigation of the active material Agx(GeySe1-y)100-x as a bulk glass and as a thin film was carried out, mainly on the basis of characterization by near field microscopy and Raman spectroscopy. Then, the electrical switching in thin films was investigated with a new method: the conductive atomic force microscopy (C-AFM). The same technique allowed investigating the electrical switching phenomena in thin films prepared by sputtering Ge2Sb2+xTe5 (x = 0.25, 0.5, 1) targets.
Résumé : Ce travail s'inscrit dans l'étude de matériaux chalcogénures susceptibles d'être utilisés dans le développement de mémoires électriques. Notre but était d'apporter un éclairage sur les matériaux et sur les mécanismes susceptibles d'expliquer les commutations électriques en leur sein. Nous ne nous sommes pas intéressés aux phénomènes de changement de phase cristallisé/amorphe intervenant, par exemple, dans le matériau stoechiométrique Ge2Sb2Te5 et à la base du développement des mémoires PC-RAM (Phase Change Random Access Memory). Nous nous sommes plutôt concentrés sur les phénomènes de commutation électrique pouvant être utilisés dans le développement de mémoires R-RAM (Resistive-Random Access Memory). Deux types de matériaux ont été étudiés : les matériaux Ag-Ge-Se sélectionnés pour le développement de " cellules à métallisation programmable " et les matériaux e2Sb2+xTe5 contenant un excès d'antimoine. Dans le premier cas, nous avons d'abord réalisé une étude fondamentale du matériau actif Agx(GeySe1-y)100-x sous forme de verre massif et de film mince. La microscopie en champ proche et la spectroscopie Raman ont été les techniques d'analyse de choix au cours de cette étude. Puis nous avons procédé à une étude de la commutation électrique au sein des films minces par une méthode originale : la microscopie à force atomique conductrice. Cette même technique nous a permis d'étudier les phénomènes de commutation électrique dans des films minces préparés par pulvérisation cathodique de cibles Ge2Sb2+xTe5 contenant un excès d'antimoine (x = 0.25, 0.5, 1).