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. Pour-la-photolithographie, on va détailler ci-après, les différents paramètres à inclure à chaque fois qu'il y a une photolithographie à effectuer. On commence toujours par un HMDS Auto (cas des Wafers sans métal) (programme n°1) Pour le dépôt de résine, on utilise la piste EVG120. Le programme de dépôt et cuisson s'appelle enduction PFI sans detourage

L. 'étape-suivante-est-la-révélation, Elle se fait sur la piste EVG120, le programme s'appelle révélation_PFI_classique Après la révélation, on procède à une observation visuelle et microscopique des wafers pour contrôler l'absence de défauts. En cas de traces sur la face arrière

. Finalement, une étape de contrôle est nécessaire sur le profilmètre afin de vérifier la bonne épaisseur de la résine

. Etape-n°1, 1 : Photolithographie n°1 (Masque 1) : Grand Caisson P -(T4)

. Etape-n°1, Recuit d'activation de l'implantation n°1 avec encapsulation (oxydation) (T2

. Etape-n°2, 4 : Recuit d'activation de l'implantation n°2 avec encapsulation (oxydation)

S. Qualité, 10 -12 F.cm Figure C 2 : Programme de l'activation de l'implantation n°2

. Etape-n°5, 1 : Dépôt de Poly Silicium de 0,3µm LPCVD pleine plaque

. Etape-n°5, Photolithographie n°5 (Masque n°5) : Protection pour implantation Cathode

. Etape-n°5, Implantation forte dose, zones conductrices et les prises de contact ohmique

. Etape-n°5, Nettoyage résine : Plasma O 2

. Etape-n°6, 1 : Photolithographie n°6 (Masque 6) (T4) : Contact d'anode Déshydratation : étuve 200°C auto pendant 20min

. Etape-n°6, Nettoyage résine : Plasma O 2

. Etape-n°7, 1 : Photolithographie n°7 (Masque 7) : Délimitation des motifs en polysilicium

. Etape-n°8, 1 : Photolithographie n°8 (Masque 8) : Ouvertures des contacts Déshydratation : étuve 200°C auto pendant 20min

. Etape-n°8, Nettoyage résine : Acétone, H 2

. Etape-n°9, 1 : Photolithographie n°9 (Masque9) : délimitation des motifs métalliques par lift-off (Résine Nlof

I. Geiger, Avalanche Photodiodes as tentative light detectors for VHE gamma ray astronomy

. Study, simulation and manufacturing of new Geiger-APD for applications in Astrophysics and Biology