Membranes a-SiCxNy:H déposées par CVD-plasma. Tamis moléculaire pour la perméation de l'hélium

Wassim Kafrouni 1, *
Résumé : unavailable
Document type :
Theses
Liste complète des métadonnées

Cited literature [41 references]  Display  Hide  Download

https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00466225
Contributor : Iem Aigle <>
Submitted on : Tuesday, March 23, 2010 - 10:32:48 AM
Last modification on : Thursday, January 11, 2018 - 6:16:09 AM
Document(s) archivé(s) le : Monday, June 28, 2010 - 4:24:39 PM

File

theseWKafrouni.pdf
Files produced by the author(s)

Identifiers

  • HAL Id : tel-00466225, version 1

Collections

Citation

Wassim Kafrouni. Membranes a-SiCxNy:H déposées par CVD-plasma. Tamis moléculaire pour la perméation de l'hélium. Matériaux. Université Montpellier 2, 2009. Français. ⟨tel-00466225⟩

Share

Metrics

Record views

236

Files downloads

1941