From the sensitive layer to the system : cold plasma deposition and gas sensors
De la couche sensible au système :dépôt par plasma froid et capteurs de gaz
Abstract
My research activities are grouped into three main parts from the sensitive layer to the system. The first part focuses on the cold plasma. The plasma environment as physically and chemically very reactive, was mainly used for thin film deposition, but also served as a tool for characterization of surface or gas processing. The second part deals with the development of a gas sensor from the deposition of the sensitive layer to the device. It comes from the assumptions until sensor characteristics. The third part concerns the multisensor systems. In this part, the system consists of several sensors, the feature extraction of the signals and the data processing. Finally, my work in recent issues are quickly exposed in the fourth section of the paper.
Mes activités de recherches sont regroupées en trois parties principales allant de la couche sensible jusqu'au système. La première partie porte sur les plasmas froids. Le plasma, en tant que milieu physiquement et chimiquement très réactif, a essentiellement été utilisé pour le dépôt de couches minces, mais a aussi servi d'outil de caractérisation de surface ou encore de traitement de gaz. La deuxième partie traite du développement d'un capteur de gaz à partir du dépôt de la couche sensible jusqu'au dispositif. Il est présenté à partir des hypothèses de départ jusqu'aux caractéristiques du capteur. La troisième partie concerne les systèmes multicapteur. L'étude se situe cette fois au niveau du système, constitué de plusieurs capteurs, de l'acquisition des signaux et du traitement des données. Pour terminer, mes activités dans des sujets récents sont rapidement exposées dans la quatrième partie de ce mémoire.
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