Effets de température dans les procédés de gravure plasma : Aspects fondamentaux et applications

Résumé : L'objectif du travail de thèse est d'étudier les effets de température et du dopage sur les caractéristiques de gravure du Si et des polymères : produits de réaction, cinétiques, énergie d'activation, anisotropie, et sélectivité. La gravure anisotrope des polymères est ensuite étudiée en fonction de la température en utilisant des mélanges de gaz permettant d'utiliser un procédé par passivation latérale. Les résultats expérimentaux obtenus sont discutés en tenant compte de l'étude thermodynamique des systèmes chimiques concernés. Le travail s'achève par l'étude de faisabilité de filtres pour microfiltration par perçage de pores à travers des films polymère.
Type de document :
Thèse
Physique des plasmas [physics.plasm-ph]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2008. Français


https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00355029
Contributeur : Min Koo <>
Soumis le : mercredi 21 janvier 2009 - 16:58:24
Dernière modification le : samedi 25 juillet 2015 - 01:04:52
Document(s) archivé(s) le : mardi 8 juin 2010 - 18:14:36

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  • HAL Id : tel-00355029, version 1

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Citation

Min Koo. Effets de température dans les procédés de gravure plasma : Aspects fondamentaux et applications. Physique des plasmas [physics.plasm-ph]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2008. Français. <tel-00355029>

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