Contribution à l'étude de la diffusion des atomes de Bore dans le Silicium

Résumé : Indisponible
keyword : Indisponible
Document type :
Theses
Matériaux. Université Paul Sabatier - Toulouse III, 1972. Français


https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00176339
Contributor : Anne Bergez <>
Submitted on : Wednesday, October 3, 2007 - 11:43:22 AM
Last modification on : Wednesday, October 3, 2007 - 3:54:00 PM
Document(s) archivé(s) le : Monday, June 27, 2011 - 3:33:08 PM

File

884.pdf
Files produced by the author(s)

Identifiers

  • HAL Id : tel-00176339, version 1

Collections

Citation

Jean Bodinaud. Contribution à l'étude de la diffusion des atomes de Bore dans le Silicium. Matériaux. Université Paul Sabatier - Toulouse III, 1972. Français. <tel-00176339>

Export

Share

Metrics

Record views

109

Document downloads

41