Contribution à l'étude de la diffusion des atomes de Bore dans le Silicium

Résumé : Indisponible
keyword : Indisponible
Document type :
Theses
Materials. Université Paul Sabatier - Toulouse III, 1972. French


https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00176339
Contributor : Anne Bergez <>
Submitted on : Wednesday, October 3, 2007 - 11:43:22 AM
Last modification on : Wednesday, October 3, 2007 - 3:54:00 PM

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884.pdf
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  • HAL Id : tel-00176339, version 1

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Jean Bodinaud. Contribution à l'étude de la diffusion des atomes de Bore dans le Silicium. Materials. Université Paul Sabatier - Toulouse III, 1972. French. <tel-00176339>

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