https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00176339
Contributor : Anne Bergez <>
Submitted on : Wednesday, October 3, 2007 - 11:43:22 AM Last modification on : Friday, January 10, 2020 - 9:08:09 PM Long-term archiving on: : Monday, June 27, 2011 - 3:33:08 PM
Jean Bodinaud. Contribution à l'étude de la diffusion des atomes de Bore dans le Silicium. Matériaux. Université Paul Sabatier - Toulouse III, 1972. Français. ⟨tel-00176339⟩