Electrochemical behaviour of amorphous Si based coatings elaborated by Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition
Etude du comportement anticorrosion de revetements amorphes base Si élaborés par dépot chimique en phase vapeur
Résumé
The aim of this work is to analyse the corrosion protective properties of amorphous Si based coatings deposited by plasma assisted chemical vapour deposition (PACVD).
The corrosion protective ability of SiOx and SiOxNy coatings is mainly explained by a very low open porosity and a high insulating nature of the films.
The electrochemical behaviour of SiCx and SiCxNy, typically used as under layers to promote DLC (Diamond Like Carbon) adhesion, have also been studied. The nitrogen content within the coatings was varied by changing the synthesis conditions. The semiconductive properties of SiCxNy coatings have been related to their chemical nature. An adapted incorporation of nitrogen leads to an adequate balance between positive and negative free charge carriers that help to reduce the corrosion rate.
We have finally studied the corrosion resistance and the wear-corrosion synergism provided by SiCxNy / DLC duplex coatings for multifunctional purposes
The corrosion protective ability of SiOx and SiOxNy coatings is mainly explained by a very low open porosity and a high insulating nature of the films.
The electrochemical behaviour of SiCx and SiCxNy, typically used as under layers to promote DLC (Diamond Like Carbon) adhesion, have also been studied. The nitrogen content within the coatings was varied by changing the synthesis conditions. The semiconductive properties of SiCxNy coatings have been related to their chemical nature. An adapted incorporation of nitrogen leads to an adequate balance between positive and negative free charge carriers that help to reduce the corrosion rate.
We have finally studied the corrosion resistance and the wear-corrosion synergism provided by SiCxNy / DLC duplex coatings for multifunctional purposes
Ce travail porte sur l'étude du comportement protecteur vis-à-vis de la corrosion de revêtements amorphes base Si élaborés par dépôt chimique en phase vapeur.
Le caractère protecteur de revêtements de type SiOx et SiOxNy a été analysé sur différents types de substrats. La tenue à la corrosion résulte de la faible porosité et de la nature très isolante de ces couches.
La protection fournie par des dépôts SiCx et SiCxNy utilisés comme couche d'accrochage au DLC (“Diamond Like Carbon”) a ensuite été étudiée. L'influence du taux d'incorporation d'azote de films SiCxNy a révélé une corrélation entre la structure chimique, déterminée par XPS, et le caractère semi-conducteur de la couche, établi par Mott-Schottky. La tenue à la corrosion a été directement associée à la densité de porteurs de charge.
L'étude a été complétée par une caractérisation électrochimique et une approche tribocorrosion du caractère protecteur fourni par des revêtements duplex SiCxNy / DLC.
Le caractère protecteur de revêtements de type SiOx et SiOxNy a été analysé sur différents types de substrats. La tenue à la corrosion résulte de la faible porosité et de la nature très isolante de ces couches.
La protection fournie par des dépôts SiCx et SiCxNy utilisés comme couche d'accrochage au DLC (“Diamond Like Carbon”) a ensuite été étudiée. L'influence du taux d'incorporation d'azote de films SiCxNy a révélé une corrélation entre la structure chimique, déterminée par XPS, et le caractère semi-conducteur de la couche, établi par Mott-Schottky. La tenue à la corrosion a été directement associée à la densité de porteurs de charge.
L'étude a été complétée par une caractérisation électrochimique et une approche tribocorrosion du caractère protecteur fourni par des revêtements duplex SiCxNy / DLC.
Domaines
Matériaux
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