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fulltext access Développement de techniques de fabrication collectives de dispositifs électroniques à nanostructure unique.
Tallal J.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (2007-10-19), Patrick Schiavone (Dir.) [tel-00197851 - version 1]
fulltext access Modélisation physique des effets électromagnetiques pour les interconnexions dans les circuits intégrés
Ortiz S.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (2007-07-11), Roberto Suaya (Dir.) [tel-00165969 - version 2]
fulltext access Développement de couches magnétiques dures pour MEMS : application à un microswitch magnétique bistable
Walther A.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (2007-07-05), Jérôme Delamare (Dir.) [tel-00348109 - version 1]
fulltext access Conception de microgénérateurs intégrés pour systèmes sur puce autonomes
Marzencki M.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (30/03/2007), S. Basrour (Dir.) [tel-00163796 - version 1]
fulltext access ANTENNES RECONFIGURABLES A BASE DE MEMS RF
Petit L.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (09/02/2007), Jean-Marc Laheurte (Dir.) [tel-00166530 - version 1]
fulltext access Conception de systèmes de gestion d'énergie pour microsystèmes autonomes
Ammar Y.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (06/02/2007), S. Basrour (Dir.) [tel-00136141 - version 1]
fulltext access Influence des défauts enterrés dans les masques pour la lithographie Extreme Ultra Violet
Farys V.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (2006-12-08), Patrick Schiavone (Dir.) [tel-00135902 - version 1]
fulltext access Élaboration de dispositifs et matériaux mixtes à base de polymères conjugués électroluminescents
Habrard F.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (28/11/2006), Thierry Ouisse et Olivier Stéphan (Dir.) [tel-00130247 - version 1]
fulltext access Croissance de diélectrique à forte permittivité par la technique MOCVD en phase liquide pulsée : Elaboration, et caractérisation de films de HfO2.
Dabertrand K.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (06/11/2006), Gilbert Vincent (Dir.) [tel-00130390 - version 1]
fulltext access Étude et développement de procédés de gravure plasma pour l'élaboration des grilles métalliques pour les filières technologiques CMOS : Cas de l'empilement Si/TiN/HfO2
Le Gouil A.
Université Joseph-Fourier - Grenoble I (2006-10-27), Olivier Joubert (Dir.) [tel-00146376 - version 1]