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Mécanismes physico-chimiques dans le procédé de gravure plasma du Silicium Mellhaoui X. Université d'Orléans (2006-05-24), Pierre RANSON (Dir.) [tel-00080722 - version 1]

Etude et caractérisation avancées des procédés plasma pour les technologies sub - 0.1 µm Fuard D. Université d'Orléans (2003-11-18), Joubert Olivier (Dir.) [tel-00006610 - version 1]