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fulltext access Mécanismes physico-chimiques dans le procédé de gravure plasma du Silicium
Mellhaoui X.
Université d'Orléans (24/05/2006), Pierre RANSON (Dir.) [tel-00080722 - version 1]
fulltext access Etude et caractérisation avancées des procédés plasma pour les technologies sub - 0.1 µm
Fuard D.
Université d'Orléans (18/11/2003), Joubert Olivier (Dir.) [tel-00006610 - version 1]