Institut des matériaux Jean Rouxel
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GRAVURE ET TRAITEMENT PAR PLASMA DE MATERIAUX ORGANOSILICIES SIOC(H) POUR DES APPLICATIONS EN LITHOGRAPHIE AVANCEE ET COMME ISOLANT D'INTERCONNEXION EN MICROELECTRONIQUE
Eon D.
Université de Nantes (01/10/2004), Christophe Cardinaud (Dir.) [tel-00096781 - version 1]