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fulltext access Gravure en plasma dense fluorocarboné de matériaux organosiliciés à faible constante diélectrique (SiOCH, SiOCH poreux). Etude d'un procédé de polarisation pulsée.
Raballand V.
Université de Nantes (05/07/2006), Christophe Cardinaud (Dir.) [tel-00115585 - version 2]