Membranes a-SiCxNy:H déposées par CVD-plasma. Tamis moléculaire pour la perméation de l'hélium - TEL - Thèses en ligne Accéder directement au contenu
Thèse Année : 2009

PECVD a-SiCxNy:H : A new type of molecular sieve membrane material for small gas permeation at intermediate temperature

Membranes a-SiCxNy:H déposées par CVD-plasma. Tamis moléculaire pour la perméation de l'hélium

Wassim Kafrouni
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Institut Européen des membranes

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Soumis le : mardi 23 mars 2010-10:32:48

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Archivage à long terme le : lundi 28 juin 2010-16:24:39

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Dates et versions

tel-00466225 , version 1 (23-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : tel-00466225 , version 1

Citer

Wassim Kafrouni. Membranes a-SiCxNy:H déposées par CVD-plasma. Tamis moléculaire pour la perméation de l'hélium. Matériaux. Université Montpellier 2, 2009. Français. ⟨NNT : ⟩. ⟨tel-00466225⟩

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