Temperature effects in plasma etching : Fundamentals and applications
Effets de température dans les procédés de gravure plasma : Aspects fondamentaux et applications
Résumé
The objective of the thesis is to study the temperature and doping effects on the etching characteristics of Si and polymers: reaction products, etch rates, activation energy, anisotropy and selectivity. The anisotropic etching of polymers is studied as a function of temperature by using gas mixtures able to provide lateral wall passivation. The experimental results reported are analyzed in view of the thermodynamical study of the chemical systems considered. The final part is devoted to a feasibility study of microfilters via the etching of cylindrical pores through polymer films.
L'objectif du travail de thèse est d'étudier les effets de température et du dopage sur les caractéristiques de gravure du Si et des polymères : produits de réaction, cinétiques, énergie d'activation, anisotropie, et sélectivité. La gravure anisotrope des polymères est ensuite étudiée en fonction de la température en utilisant des mélanges de gaz permettant d'utiliser un procédé par passivation latérale. Les résultats expérimentaux obtenus sont discutés en tenant compte de l'étude thermodynamique des systèmes chimiques concernés. Le travail s'achève par l'étude de faisabilité de filtres pour microfiltration par perçage de pores à travers des films polymère.